来源：问董秘
投资者提问：
作为芯片制造关键辅助设备，半导体臭氧发生装置的纯度与稳定性，直接关系到芯片清洗、光刻等核心工艺的精准度，可以减少因设备问题导致的良率损耗。请问贵司的半导体臭氧发生装置对于芯片清洗、光刻等核心工艺的精准度提供怎样的帮助与支持？发挥怎样的作用？谢谢。
董秘回答(国林科技SZ300786)：
尊敬的投资者，您好。类似问题已回复，请您参考相关回复和公司公告。感谢您的长期关注，并恳请投资者能妥善运用公共资源，无需就类似问题长期、重复提问。
查看更多董秘问答>>
免责声明：本信息由新浪财经从公开信息中摘录，不构成任何投资建议；新浪财经不保证数据的准确性，内容仅供参考。
股指配资网提示：文章来自网络，不代表本站观点。
